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          高真空磁控溅射薄膜沉积系统--JGP560
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          高真空磁控溅射薄膜沉积系统--JGP560

          本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
          零售价
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          市场价
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          浏览量:
          1000
          产品编号
          真空室结构:
          梨形上升盖
          真空室尺寸:
          φ550×350mm
          极限真空度:
          ≤6.6E-6Pa
          沉积源:
          永磁靶5套,φ2英寸
          样品尺寸,温度:
          φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 最高800℃
          占地面积(长x宽x高):
          约3米×1.1米×2米
          电控描述:
          全自动
          工艺:
          片内膜厚均匀性:≤±3%
          特色参数 :
          数量
          -
          +
          库存:
          1
          产品描述
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          产品概述:
          本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。

          设备用途:
          用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

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