高真空磁控溅射薄膜沉积系统--JGP560

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

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产品编号

所属分类

磁控溅射镀膜系统

真空室结构:

梨形上升盖

真空室尺寸:

φ550×350mm

极限真空度:

≤6.6E-6Pa

沉积源:

永磁靶5套，φ2英寸

样品尺寸，温度:

φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 最高800℃

占地面积（长x宽x高）:

约3米×1.1米×2米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±3%

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。