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中科院科学技术进步二等奖（超高真空磁控溅射）.1994
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产品编号
所属分类
中科院及省部级科技进步奖
真空室结构:
真空室尺寸:
极限真空度:
沉积源:
样品尺寸，温度:
占地面积（长x宽x高）:
电控描述:
工艺:
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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